不同浓度营养液下温室黄瓜生长发育中K分配规律的研究

以黄瓜品种‘青瓜王子’杂交一代为试材,在Venlo型玻璃温室中,以袋装珍珠岩为载体,以霍格兰(Hoagland)营养液进行施肥,设置T1(1∶200)、T2(1∶100)、T3(1∶50)、T4(1∶30)4个处理,对黄瓜整个生育期进行破坏性试验,测定黄瓜各器官钾的含量,以研究不同浓度营养液下温室黄瓜各器官对钾吸收的规律。结果表明:随着营养液浓度的提高,温室黄瓜各器官对钾的吸收量逐渐增多,但当营养液浓度超过T3时对温室黄瓜产量不利,T3处理对温室黄瓜的产量最有利,达6 984.499g/株。     

不同浓度铬对黄瓜幼苗生长发育的影响

本试验通过研究铬对黄瓜幼苗的胁迫作用,揭示铬对黄瓜的伤害机制,为预测重金属的污染提供理论依据。以霍格兰营养液中添加不同试验浓度的铬,分别为0、0.5、1、2、5、10 mg/L,研究铬对黄瓜种子的发芽率、幼苗生物量累积的影响。结果表明:低浓度的铬促进黄瓜种子的发芽和黄瓜幼苗的生长发育,高浓度的铬抑制黄瓜幼苗的生长发育,0.5 mg/L铬溶液处理的幼苗长势最佳。     

不同营养液浓度对温室黄瓜生长发育中磷分配规律的研究

为了确定温室黄瓜在无土栽培条件下磷素的分配规律,试验在智能玻璃温室中进行,以珍珠岩为载体,利用Hoagland营养液进行施肥,设置T1(1∶30)、T2(1∶50)、T3(1∶100)、T4(1∶200)4个营养液水平,采用破坏性试验,研究了不同营养液浓度下温室黄瓜各器官对磷的吸收分配规律。结果表明:T3处理(1∶100)对温室黄瓜生长发育中对磷的吸收具有较好的促进作用,可为温室黄瓜中磷的施用提供理论依据。     

不同浓度营养液对温室黄瓜生长发育的影响

[目的]确定温室黄瓜在珍珠岩栽培条件下营养液的最适浇灌量.[方法]在智能温室条件下,以袋装珍珠岩为营养液载体,采用营养添加法,即将每种化学试剂放在一个营养液罐中按照一定的比例设置4个处理：T1,1∶200;T2,1∶100;T3,1∶50;T4,1∶30供给作物,以满足作物生长需要,研究不同浓度营养液长期浇灌处理黄瓜植株对其生长发育的影响.[结果]对比T1、T2、T3、T4各时期植株的根、茎、叶、果的鲜干重可知,T3处理黄瓜植株生长状态最优.[结论]霍格兰营养液稀释50倍为智能温室黄瓜无土栽培的最优施肥方式.