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【目的】玉米穗腐病是一种在全世界广泛发生且危害严重的真菌性病害,其中,拟轮枝镰孢引起的穗腐病(Fusarium ear rot,FER)在中国发生最为普遍。通过图像分析方法进行FER抗病QTL定位,并对前期通过病害评级方法定位的FER抗病QTL进行验证,探索一种新的玉米穗腐病的病害鉴定方法,为玉米穗腐病的遗传改良提供依据。【方法】利用高感FER的自交系(ZW18)分别与3个高抗自交系(承351、丹598和吉V203)构建F2群体(F2-C、F2-D和F2-J)和相应的F2﹕3家系,通过图像分析的方法获得每个F2﹕3家系的果穗病斑百分比,进而定位玉米FER抗病QTL。【结果】3个群体共定位到18个FER抗病QTL,其中,分别位于2.02—2.03 bins、4.06—4.07 bins和8.06 bin上的3个QTL(qRf2qRf3qRf4)可解释的表型变异率分别高达21.80%、25.80%和27.40%。F2-J群体的qRf11与F2-C群体的qRf1和F2-D群体的qRf6在第1染色体均有重叠区间,可解释的表型变异率达到16.50%。来自F2-D群体的qRf9与F2-J群体的qRf16在第8染色体8.05 bin有重叠区间,且抗性基因均来源于抗性亲本。F2-C群体的qRf3与F2-J群体的qRf15在第4染色体4.06—4.07 bins有重叠区间。另外,与之前通过病害评级方法定位的结果相比,qRf1qRf6qRf11在1.06—1.07 bins与评级方法定位的抗病位点qRfer13重合,qRf3qRf15在4.06—4.07 bins与评级方法定位的抗病位点qRfer3qRfer17重叠,qRf7qRfer6在2.04 bin的定位区间完全重合,qRf17qRfer20在S2重复中定位到9.03—9.05 bins的重叠区间,且来源于相同的抗源。【结论】定位到18个FER抗性位点,其中,位于1.04—1.07 bins、4.06—4.07 bins和8.05 bin上的抗病位点在不同群体中均可以被检测到,位于2.04 bin和9.03—9.05 bins上的抗病位点用不同的检测方法可以被检测到,表明在这些区间可能存在FER的抗性位点。QTL的定位区间在不同群体中的重叠性在一定程度上验证了定位区间的真实性,不同方法之间定位到重叠区间,说明利用图像分析方法定位FER抗病QTL具有一定的准确性。  相似文献   
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