厚朴愈伤组织诱导条件的优化

为了优化出厚朴顶芽愈伤组织诱导的最适培养条件,以MS为基本培养基,探讨了6-BA、NAA、2,4-D以及光照对厚朴顶芽诱导的影响。结果表明:厚朴顶芽诱导的最适培养基为MS+2.0 mg/L2,4-D+0.5 mg/L 6-BA+1.0 mg/L NAA+30 g/L蔗糖+8 g/L琼脂,pH 5.8,培养13 d后,顶芽诱导出愈伤组织。诱导出的顶芽愈伤组织在温度(25±2)℃,光周期为12h/d,光照强度为1 500~2 000 lx条件下进行光培养,其比暗培养[(25±2℃)]差。