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1.
[目的]建立光叶山楂高效再生体系。[方法]以光叶山楂茎尖为外植体,通过植物生长调节剂和培养基配比,建立光叶山楂高效再生体系。[结果]光叶山楂初代培养最适宜的培养基配方为1/4MS+BA 0.1 mg/L;愈伤组织形成最适培养基配方为1/2MS+NAA0.1 mg/L+CPPU 0.01 mg/L;继代培养最适宜的培养基配方为MS+BA1.0 mg/L和MS+BA1.5 mg/L+IAA0.1 mg/L;生根培养最适培养基为1/4MS+IAA1.0 mg/L;100 mg/L BA浸蘸嫩茎基部30 min,外植体的生根效果最好。[结论]该研究可为光叶山楂的开发利用提供参考。  相似文献   
2.
以构树茎段为外植体,探究构树再生体系中生长调节剂组合以及再生过程抗褐变剂种类和浓度对构树再生的影响,结果表明,适宜构树启动培养基配方为MS+6-BA 1.0 mg/L+IBA 0.1 mg/L,构树初代最适培养基为MS+6-BA 1.0 mg/L+IBA 0.2 mg/L和MS+6-BA 1.0 mg/L+IBA 0.5 mg/L。添加0.1 g/L抗坏血酸对构树抗褐变效果最好,构树继代最适培养基配方为MS+IBA 0.1 mg/L+CPPU 1.0 mg/L+维生素C 0.1 mg/L。  相似文献   
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