黄瓜幼苗下胚轴响应弱光胁迫的研究

该试验选取了耐弱光黄瓜品系M22和不耐弱光品系M14作为研究材料,选取子叶平展和1叶1心时期进行弱光处理,设置了5个不同的弱光胁迫天数(1d、3d、5d、7d和9d),对黄瓜幼苗在弱光胁迫下幼苗的下胚轴性状进行研究,以期阐述黄瓜幼苗植株如何通过下胚轴变化来应答弱光胁迫。结果表明:短时间内弱光处理对黄瓜植株的生长影响不明显,弱光处理5d、7d后对黄瓜幼苗形态发生变化,如随着弱光时间的延长,弱光对黄瓜植株的影响逐渐增大。这说明在短时间弱光处理下,对植株产生的伤害较轻,而随着弱光时间的延长,弱光对植株的伤害也就逐渐增加,严重时可抑制植株的生长甚至可造成植株的死亡。