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TiO2 薄膜折射率的调控方法
引用本文:周灵平,罗小兰,朱家俊,彭 坤,李德意,李绍禄. TiO2 薄膜折射率的调控方法[J]. 湖南农业大学学报(自然科学版), 2011, 38(9): 59-63
作者姓名:周灵平  罗小兰  朱家俊  彭 坤  李德意  李绍禄
作者单位:(湖南大学 材料科学与工程学院,湖南 长沙 410082)
摘    要:采用电子束蒸发技术及其辅助工艺制备了TiO 2 薄膜,利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的组织结构进行了表征,采用紫外可见分光光度计研究了TiO 2 薄膜的折射率变化.结果表明:传统电子束蒸发镀制的TiO 2 薄膜的折射率低于块体值,通过调节氧气压、沉积速率和衬底温度可在1.97~2.22范围内调控其折射率;采用离子束辅助轰击可使薄膜致密化,获得折射率在2.06~2.42范围内变化的TiO 2 薄膜;利用斜角入射沉积可控制薄膜生长角度与孔隙率,实现折射率在 1.71 ~2.18范围内的调控.

关 键 词:薄膜;折射率;电子束蒸发

Regulation of the Refractive Index of TiO 2 Films
ZHOU Ling -ping,LUO Xiao -lan,ZHU Jia -jun,PENG Kun,LI De -yi,LI Shao -lu. Regulation of the Refractive Index of TiO 2 Films[J]. Journal of Hunan Agricultural University, 2011, 38(9): 59-63
Authors:ZHOU Ling -ping  LUO Xiao -lan  ZHU Jia -jun  PENG Kun  LI De -yi  LI Shao -lu
Affiliation:(College of Materials Science and Engineering, Hunan Univ, Changsha, Hunan 410082, China)
Abstract:
Keywords:films   refractive index   electron beam evaporation
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