| 弱光胁迫下黄瓜苗期下胚轴性状的遗传分析 |
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| 引用本文： | 李丹丹,司龙亭,罗晓梅. 弱光胁迫下黄瓜苗期下胚轴性状的遗传分析[J]. 西北农林科技大学学报(自然科学版), 2009, 37(11): 113-119 |
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| 作者姓名： | 李丹丹 司龙亭 罗晓梅 |
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| 作者单位： | 沈阳农业大学 园艺学院;沈阳农业大学 园艺学院;沈阳农业大学 园艺学院 |
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| 基金项目： | 辽宁省“十五”科技攻关项目（2002215004） |
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| 摘 要： | 【目的】阐明弱光胁迫下黄瓜下胚轴性状的遗传特点。【方法】以耐弱光黄瓜品系M22与不耐弱光黄瓜品系M14及其F1、F2、回交世代（B1、B2）为试验材料,应用F2群体分离分析方法与主基因+多基因模型分析法,于2007和2008年对弱光（日平均光强为100μmol/（m2.s））条件下黄瓜的下胚轴长与下胚轴粗进行遗传分析。【结果】群体分离分析结果表明,黄瓜F2代群体中下胚轴粗和下胚轴长性状遗传变异幅度均较小,其中下胚轴粗在2007和2008年的变异幅度分别为0.258和0.226cm,下胚轴长分别为8.5和4.5cm;广义遗传力较低,其中下胚轴粗在2007和2008年的广义遗传力分别为0.54和0.62,下胚轴长为0.60和0.69,表明不宜在F2代进行性状选择。主基因-多基因遗传分析表明,黄瓜下胚轴粗的遗传受1对加性主基因-加性-显性多基因模型（D2）控制,B1、B2、F2世代主基因遗传率分别为27.03%,56.25%和60.38%。下胚轴长遗传受加性-显性-上位性多基因（C0）控制,B1、B2、F2代多基因遗传率分别为74.38%,63.29%和83.37%。【结论】下胚轴粗遗传以主基因遗传为主;下胚轴长性状主要由微效多基因控制,受环境影响很大,不宜进行早代选择。
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| 关 键 词： | 黄瓜(Cucumis.sativus.L) 弱光胁迫 下胚轴长 下胚轴粗 遗传分析 |
| 收稿时间： | 2009-03-20 |
Genetic analysis on hypocotyl traits of cucumber seedlings under low light stress |
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| XING Dong xing,CHANG Qing rui. Genetic analysis on hypocotyl traits of cucumber seedlings under low light stress[J]. Journal of Northwest A&F University（Natural Science Edition）, 2009, 37(11): 113-119 |
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| Authors: | XING Dong xing CHANG Qing rui |
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| Affiliation: | (College of Horticulture,Shenyang Agricultural University,Shenyang,liaoning 110161,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | cucumber low light stress hypocotyls length hypocotyl thickness genetic analysis |
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