摘 要: | 【目的】为了探明槲树(Quercus dentata)苗期生长的适宜光照强度,为其在城市森林建设应用中提供参考。【方法】以槲树幼苗为试验材料,设置全光照(CK)、75%全光照、50%全光照、25%全光照4个光照梯度,处理60 d后,测定生长指标、叶解剖结构、生理指标和光合参数。【结果】75%全光照下槲树幼苗生长状况最佳,有利于生长。随着遮阴程度增加,槲树幼苗的叶片、栅栏组织、海绵组织、主脉、上表皮和下表皮的厚度均减小,栅海比减小,而细胞疏松度增加。过氧化物酶、超氧化物歧化酶、过氧化氢酶的活性随着遮阴程度的增加先降低后升高,可溶性糖、可溶性蛋白、脯氨酸与丙二醛的含量表现出相似的变化规律。遮阴处理消除了槲树幼苗的光合午休现象,并且提高了光能利用效率,减少了暗呼吸消耗,有利于光合产物的积累。【结论】槲树幼苗具有一定的耐阴性,75%全光照是适宜槲树苗期生长的光照强度。
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