|
|||||
|
|
| 土壤栽培和基质栽培模式下嫁接黄瓜根际温度及生长的差异特征 | |
| 作者姓名： | 杨冬艳 冯海萍 赵云霞 桑婷 |
| 作者单位： | 宁夏农林科学院园艺研究所,宁夏 银川 750002 |
| 基金项目： | 国家科技支撑计划;国家科技支撑计划;国家大宗蔬菜产业技术体系项目 |
| 摘 要： | 试验对日光温室秋冬茬有机基质栽培和土壤栽培模式下嫁接黄瓜的生长进行了比较研究.结果表明:有机基质黄瓜根际平均温度为21.17℃,变异系数为9.27,土壤平均温度为20.87℃,变异系数为10.83;基质栽培与土壤栽培的嫁接黄瓜果实Vc、总糖含量没有显著差异,但硝酸盐含量显著高于土壤栽培,基质栽培的嫁接黄瓜生长势强,采收... |
| 关 键 词： | 嫁接黄瓜 土壤栽培 基质栽培 根际温度 土壤环境 产量 品质 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |