土壤栽培和基质栽培模式下嫁接黄瓜根际温度及生长的差异特征

试验对日光温室秋冬茬有机基质栽培和土壤栽培模式下嫁接黄瓜的生长进行了比较研究。结果表明:有机基质黄瓜根际平均温度为21.17℃,变异系数为9.27,土壤平均温度为20.87℃,变异系数为10.83;基质栽培与土壤栽培的嫁接黄瓜果实Vc、总糖含量没有显著差异,但硝酸盐含量显著高于土壤栽培,基质栽培的嫁接黄瓜生长势强,采收期提前5 d,产量达到4 648 kg/667 m~2,较土壤栽培模式增加9.41%。因此,在西北地区日光温室越冬生产中,有机基质栽培嫁接黄瓜模式能够提早上市,提高黄瓜产量和效益。