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基于投影寻踪模型的企业文化测量研究
引用本文:杜春颖,李玉明.基于投影寻踪模型的企业文化测量研究[J].黑龙江八一农垦大学学报,2012(3):92-96.
作者姓名:杜春颖  李玉明
作者单位:黑龙江八一农垦大学经济管理学院
摘    要:以我国家电企业为研究对象,在结合实际的基础上,对我国企业文化的测量作了具体的分析和研究,采用投影寻踪模型得出最佳投影方向,以此来判断各评价指标对综合评价目标的影响程度和方向,最终得出投影指标值从大到小的排序。为企业文化的测量提供了一种新的方法。

关 键 词:投影寻踪  企业文化  遗传算法
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