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起垄内嵌基质栽培对日光温室夏季黄瓜根区温度、生长和产量的影响
作者姓名:李宝石  刘文科  王奇  邵明杰
作者单位:中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所,农业农村部设施农业节能与废弃物处理重点实验室,北京 100081
基金项目:河北省重点研发计划项目(20327211D);国家重点研发计划项目(2016YFD0801001)
摘    要:为探究起垄内嵌基质栽培(soil-ridge substrate-embedded cultivation,SSC)对夏季蔬菜栽培根区温度和生产性能的影响,以土壤栽培垄+银色反光地膜为对照(SR处理),分别设置SSC(垄高15 cm,宽度20 cm)+银色反光地膜(SSC处理),SSC(垄高10 cm、宽度20 cm)...

关 键 词:日光温室  黄瓜  起垄内嵌式基质栽培  根区温度  产量
收稿时间:2020-10-14
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