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| 高压静电场对谷子幼苗生长和穗部性状的影响 | |
| 引用本文： | 胡希远,雷大富.高压静电场对谷子幼苗生长和穗部性状的影响[J].陕西农业科学,1996(2):28-29. |
| 作者姓名： | 胡希远 雷大富 |
| 摘 要： | 本研究表明，高压静电场处理谷子种子使幼苗生长加快，根冠比增大，穗重和穗粒数提高，秕谷率降低，处理剂量以场强Ｅ＝５．５－６．５ｋｖ／ｃｍ较佳。 |
| 关 键 词： | 高压静电场 谷子 生长 穗部性状 种子处理 |
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