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| 日光温室嵌膜式基质栽培对根区温度及番茄生长和产量的影响 | |
| 引用本文： | 李宝石,王奇,刘文科,邵明杰.日光温室嵌膜式基质栽培对根区温度及番茄生长和产量的影响[J].山东农业科学,2021(2):24-28. |
| 作者姓名： | 李宝石 王奇 刘文科 邵明杰 |
| 摘 要： | 为研究垄嵌和沟嵌基质栽培以及覆膜方式对日光温室番茄根区温度和植株生长及产量的影响,试验设置梯形土垄栽培处理(SR),下底宽40 cm、高10 cm;起垄内嵌式基质栽培处理(SSC),下底宽40 cm、高10 cm,内嵌槽深20 cm(嵌入水平地面以下10 cm);内嵌槽全嵌入(20 cm)水平地面的土壤沟嵌栽培处理(S... |
| 关 键 词： | 日光温室 番茄幼苗 根区温度 株高 地膜覆盖 |
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