西瓜穴棚式地膜覆盖栽培

西瓜穴棚式地膜覆盖栽培是利用膜下穴内的温度效应,避免幼苗出土后接触地膜高温灼伤和晚霜的危害。现将其栽培技术要点介绍如下,以供瓜农参考。 ①整地作畦。整地要细致,土壤要细碎,先拣净地中茬子,然后作成龟背型畦,畦高以15厘米为宜。②挖穴种植。用饭碗或铁勺挖穴,穴深6～10厘米,挖出的土要放到畦间的沟中,以保持畦面的平整。③播种覆土。在当地适宜播期,首先将种植穴浇透水,然后每穴播二粒催出芽的种子,覆土2厘米。④喷药覆膜。