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西瓜地膜小棚栽培密度与肥量的研究
引用本文:王玉芝,孙酉石.西瓜地膜小棚栽培密度与肥量的研究[J].吉林农业大学学报,1987(4).
作者姓名:王玉芝  孙酉石
作者单位:吉林农业大学特产园艺系 (王玉芝),吉林农业大学农业现代化综合技术研究所(孙酉石)
摘    要:本文采用二次通用旋转回归设计,对西瓜地膜、小棚栽培的密度、磷、钾肥施用量进行了研究,通过田间小区试验测定参数,使用APPLE—Ⅱ“程序包”,解析了密度(X_1)、三料磷(X_2)、硫酸钾(X_3)等因素对产量的效应及其互相关系,提出了双膜覆盖栽培郑州三号西瓜最佳密度与施肥方案。

关 键 词:二次通用旋转回归设计  地膜  小棚栽培
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