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| 流动注射-抑制化学发光法测定铽(Ⅲ) | |
| 引用本文： | 邓翔,潘虹,董入源,黄玉明.流动注射-抑制化学发光法测定铽(Ⅲ)[J].西南农业大学学报,2008,30(5):27-30. |
| 作者姓名： | 邓翔 潘虹 董入源 黄玉明 |
| 作者单位： | 西南大学,化学化工学院,重庆,400715 |
| 摘 要： | 在碱性介质中, 铽(Ⅲ)离子对Luminol-KMnO4体系化学发光强度具有抑制作用, 据此建立了一种简便、快速测定铽(Ⅲ)的化学发光新方法. 在优化实验条件下, 化学发光强度与铽(Ⅲ)浓度在1.0×10-7～1.0×10-5 mol/L范围内呈现良好的线性关系. 其检测限(3σ)为2.0×10-8 mol/L, 对8.0×10-7 mol/L的铽(Ⅲ)溶液进行11次平行测定, 相对标准偏差为1.19%. 将本法应用于合成样品中铽(Ⅲ)的测定, 结果满意. |
| 关 键 词： | 流动注射 化学发光 高锰酸钾 铽（Ⅲ） 抑制 |
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