LF4合金在磷酸盐-氢氧化钠溶液中的微弧氧化

在磷酸盐混合体系中对LF4合金进行微弧氧化，制得了厚达90μm、显微硬度超过1200HV的陶瓷氧化膜。采用电子能谱（EDS）、X射线衍射（XRD）和扫描电镜(SEM）等表面分析方法综合分析了膜层的成分、形貌及结构，并初步讨论了LF4合金微弧氧化膜的形成过程。     

一种新型铅酸蓄电池正极基底的研究

用线性极化法和恒电量方法对铅、铅－４％锑合金及钛酸铝陶瓷板镀二氧化铅基底在硫酸溶液中的腐蚀进行了研究,结果表明：钛酸铝陶瓷板镀二氧化铅基底耐蚀性好,且质量轻、比表面积大,是一种理想的正极板导电基底材料。     

Pt修饰聚苯胺-WO3复合膜电极对甲醛的电催化氧化

采用脉冲电位法在钛电极表面合成了聚苯胺-三氧化钨(PANI-WO_3)复合膜．扫描电镜照片表明,粒径100～150 nm的WO_3颗粒较好地分散在纳米纤维状PANI中, WO_3在膜中的嵌入对PANI的形貌没有产生明显的影响．研究结果表明,PANI-WO_3膜具有良好的导电性,有着比单纯纳米纤维PANI更小的电化学阻抗．与Pt/PANI电极相比较, Pt/PANI-WO_3电极对甲醛的电化学氧化呈现出了更好的催化活性;在相同的PANI膜厚和Pt载量的条件下,Pt/PANI-WO_3电极对甲醛氧化催化活性是Pt/PANI电极的2～3倍．     

碳纤维表面电沉积Ni-B合金工艺的研究

研究了碳纤维表面电沉积Ni-B合金工艺,结果表明碳纤维的预处理、镀液组分以及电解参数对沉积速度及镀层质量有明显的影响.通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)对镀层的微观形貌、结构及组分进行了分析,表明在确定的电镀条件下可获得镀层中硼的质量分数为0.8%~4%的Ni-B微晶镀层,镀层细致、均匀、致密、结合力好.     

聚苯胺蒙脱土导电复合材料的制备与性能研究

采用电化学聚合法制备了插层聚苯胺钠基蒙脱土复合材料.探讨了复合材料前躯体插层苯胺-钠基蒙脱土的制备过程,采用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）和电化学方法对复合材料的形貌结构和性能进行了表征.XRD结果表明,经苯胺插层后钠基蒙脱土的层间距明显增大,插层苯胺经电化学聚合后,其层间距仍比纯钠基蒙脱土层间距大,但小于苯胺插层的钠基蒙脱土.SEM照片表明,经电化学聚合后,钠基蒙脱土复合材料的致密程度高于未经电化学聚合的钠基蒙脱土的致密度.由插层聚苯胺-钠基蒙脱土复合材料修饰的电极对甲醇的电化学氧化和铁氰化钾的氧化还原具有优异的电催化性能.     

氧化钴多孔薄膜的电化学制备及其超电容性能

采用恒电流沉积方法,以0.2 mol/L CoSO4 1.5 mol/L H2SO4为电镀液,在阴极大电流密度下,以氢气泡为模板,在石墨基体上成功制备了CoOx.yH2O多孔薄膜.通过扫描电子显微镜、循环伏安法和恒电流充放电技术等对CoOx.yH2O多孔薄膜的形貌及超电容性能进行表征和研究,并对CoOx.yH2O多孔薄膜的沉积机理进行了探讨.结果表明:CoOx.yH2O薄膜呈纳米/亚微米级的多孔结构,随阴极电流密度的增加,薄膜的孔径增大;同时,膜层具有优异的充放电性能和功率特性,比电容达64.8 F·g-1,并具有良好的稳定性.     

镁合金新型电镀工艺研究

研究了一种镁合金表面直接电镀镍的新工艺.采用脉冲电流法预镀镍,再采用脉冲电流或恒电流方法电沉积镍,可在镁合金表面获得结合力、防护装饰性能优良的镍镀层.采用记时电位和动电位扫描方法研究了镁合金的直接电镀镍行为,采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)等方法对镀层的微观形貌和结构进行分析.结果表明:镁合金表面经脉冲电流法预镀镍后,表面形成了稳定的薄层镍镀层,可为后续电镀镍合金提供性能良好的镀层基底;后续镀液中的促进剂具有提高电流效率、促进镀层沉积的作用.镁合金直接电镀工艺所得镀层具有非晶态结构,均匀、致密,耐蚀性能优异.