7.5MeV电子束转轫致辐射的理论研究初探

为研究电子束转轫致辐射的特性,采用FLUKA蒙特卡罗程序,研究了7.5 Me V电子束透过Cu、Ag、W、Ta、Water靶的电子、轫致辐射光子的特性,得到了利用轫致辐射进行辐照时的最佳靶厚度,以及在最佳靶厚度情况下的透射轫致辐射的能量密度分布。同时对不同束流扫宽情况下的能量利用率进行了初步探讨。本研究对7.5 Me V电子束转轫致辐射的靶设计及其辐射加工产业具有一定的理论指导意义。     

10MeV电子直线加速器辐照工艺确定的简便方法及其应用

为简化辐照工艺制定方法,以10Me V电子直线加速器为研究对象,利用铝片叠层法测定电子束单双面辐照时铝片中的剂量分布情况,并以此为基础推算、建立并验证不同密度产品10Me V电子束单双面辐照的深度剂量分布曲线,得出10Me V电子束辐照时各射程深度与材料密度的关系公式。根据深度剂量分布曲线,明确了双面辐照时均一密度产品在不同辐照深度情况下对应的剂量不均匀度(U)。以U≤2.5为标准,将产品按不同厚度分类,建立相应的辐照加工工艺,且实际生产应用效果良好。本研究对10 Me V电子直线加速器辐射加工工艺制定具有一定的指导意义。