铝含量及偏压对磁控溅射氮铝铬薄膜结构及性能的影响

本文采用反应磁控溅射法在烧结Nd Fe B表面连续地沉积了一系列不同铝含量的氮铝铬薄膜,使用扫描电镜、纳米压痕仪分别表征了薄膜的形貌和硬度。所制备的薄膜铝含量范围在1~40at.%之间。研究结果表明:铝含量改变了薄膜显微结构的致密性,以至于关系着薄膜硬度。而基底施加合适的负偏压会使薄膜致密、硬度提高。实验中氮铝铬薄膜的获得的最高硬度为24.8Gpa,此时施加的偏压为150V,铝含量为33.29at.%。     

烧结钕铁硼磁控溅射氧化物薄膜性能研究

采用直流脉冲磁控溅射法,在烧结钕铁硼磁体表面沉积了厚度约为700nm的氧化锆、氧化铬、氧化铝、氧化钛薄膜。使用扫描电镜、纳米压痕仪分别表征了薄膜的形貌、硬度和弹性模量。采用电化学工作站测试了薄膜的动电位极化曲线,考查了其防腐蚀性能。研究结果表明在施加离子束辅助条件下薄膜更加致密,性能较好。其中氧化钛薄膜硬度最高,达23Gpa。由于氧化铝薄膜为非晶结构,在防腐蚀能力方面表现更出色,相比于基底其腐蚀电流密度降低45倍之多。