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作为现代电力电子核心器件之一的P沟道VDMOS (vertical double-diffuse,MOS)器件,一直以来由于应用领域狭窄而并未得到足够的研究。以P沟道VDMOS器件为研究对象,为一款击穿电压超过-200 V的P沟道VDMOS设计了有源区的元胞结构及复合耐压终端结构,并开发了一套完整的P沟道VDMOS专用非自对准工艺流程。最后通过仿真得到器件的击穿电压超过-200 V,阈值电压为-2.78 V,完全满足了设计要求,也为下一步流片提供了有益的参考。  相似文献   
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