设施黄瓜霜霉病高光谱特征选择及预测模型

为构建基于高光谱参数的设施黄瓜霜霉病发生级别预测模型,使用手持光谱仪ASD FieldSpec HandHeld检测不同黄瓜霜霉病为害下黄瓜叶片高光谱反射率,并分析400～900 nm波段内的光谱反射率参数与黄瓜霜霉病发生级别的相关关系和回归关系。结果表明,在400～718 nm波段范围内,随着霜霉病级别的增加,黄瓜光谱反射率均有明显上升,并在568～687 nm波段范围内达到极显著相关水平;在825～900 nm波段范围内,随着霜霉病级别的增加,黄瓜光谱反射率均有明显下降,在837～895 nm波段范围内达到极显著相关水平。利用可见光区特征波长点679 nm、近红外区特征波长点861 nm的光谱反射率以及归一化植被指数(NDVI)、系统比值植被指数(RVI)构建黄瓜霜霉病发生级别监测预警方程,其中前3个预测模型均达到极显著水平(P0.01)。因此,可以利用高光谱信息数据来预测设施黄瓜霜霉病发生的级别。