| 场发射FED器件MIM结构Ta-Ta2O5-Al薄膜的制备及性能 |
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| 引用本文： | 杨兰,郭太良.场发射FED器件MIM结构Ta-Ta2O5-Al薄膜的制备及性能[J].厦门水产学院学报,2011(6):476-480. |
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| 作者姓名： | 杨兰 郭太良 |
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| 作者单位： | [1]集美大学理学院,福建厦门361021 [2]福州大学物理与信息工程学院,福建福州350108 |
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| 基金项目： | 国家863计划平板显示重大专项（2008AA03A313）; 教育部博导基金资助项目（20103514110007）; 黄慧贞集美大学学科建设基金资助项目（JM201142） |
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| 摘 要： | 利用直流磁控溅射Ta膜和阳极氧化法制备Ta2O5薄膜,能谱分析（EDS）和X射线衍射仪（XRD）研究表明,在H3PO4电解液中添加少量的乙二醇制备的Ta2O5薄膜,呈非晶态,没有β-Ta2O5晶相出现.利用电击穿场强测试系统研究Ta-Ta2O5-Al复合薄膜制备FED器件（MIM结构）的绝缘性,证明采用磁控溅射和阳极氧化法成功制备了漏电流密度低、耐击穿场强高的Ta2O5薄膜.
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| 关 键 词： | 阳极氧化 Ta2O5薄膜 MIM结构 非晶态 |
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