西瓜离体培养技术的研究 |
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引用本文: | 张孝祺,虞皓.西瓜离体培养技术的研究[J].中国西瓜甜瓜,1996(2):13-16. |
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作者姓名: | 张孝祺 虞皓 |
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摘 要: | 本文研究了西瓜主芽、子叶、下胚轴和根的离体培养技术。结果表明:芽增殖速度与BA、NAA含量关系密切,诱导芽增殖以W14(MS+BA2+NA0.1+蔗糖3%)培养基较佳;子叶离体培养诱导不定芽与苗龄、培养基、子叶组织的部位有关;培养基中NAA、IBA的存在及含量对下胚轴、胚根愈伤组织的产生有直接的关系。芽经诱导成苗后,转移到生根培养基中(1/2MS+IBA1+蔗糖3%),长出根后移到珍珠岩中保温保湿
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关 键 词: | 西瓜 离体培养 培养基 |
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