外源褪黑素影响萝卜生长及对链格孢菌抗性的机理研究

以‘江南圆白’萝卜(Raphanus sativus)幼苗为材料，叶片喷施等量0、50、100、500、1 000和1 500μmol·L^-1褪黑素，测定各处理幼苗生物量、总叶绿素含量、APX酶活性、H2O2含量，内源褪黑素含量以及亚细胞结构，同时对各处理幼苗接种芸薹链格孢菌(Alternaria)后的发病情况进行统计。结果表明，在50、500μmol·L^-1褪黑素浓度范围内，幼苗生长和抗性随喷施浓度升高而增加，其中500μmol·L^-1处理各项指标最佳，而1 000、1 500μmol·L^-1褪黑素处理降低各项指标，说明褪黑素可通过剂量依赖模式调节萝卜生长及抗性。此外对0、500和1 500μmol·L^-1褪黑素处理的样品进行RNA-Seq转录组分析，筛选出8个与光合调控(Ubr)和逆境抗性(Aos1、Prp1、Zat-like、Jub1-like、Edr1、Usp和Eda)相关的差异表达基因，且其表达量亦呈明显的剂量依赖效应。