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| 日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术 | |
| 引用本文： | 周永香,崔永恒.日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术[J].蔬菜,2014(3):38-39. |
| 作者姓名： | 周永香 崔永恒 |
| 作者单位： | 北京市通州区农业技术推广站,北京通州101101 |
| 摘 要： | 应用一绳双蔓栽培技术,可有效提高种植密度,提高日光温室光热资源利用率。在行距70 cm情况下,一绳双蔓栽培较双绳双蔓栽培株距由50 cm降至30 cm,667 m2种植密度由2 380株提高到3 170株。每667 m2可多定植790株,单瓜质量在1.6 kg左右,667 m2可增加西瓜产量1 200 kg以上,增收6 000元左右。 |
| 关 键 词： | 日光温室 小型西瓜 一绳双蔓 高产 |
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