低温、低光照强度对扁浒苔生长的影响

为研究低温、低光照强度对浒苔生长和光合作用参数的影响,设置不同的光照强度和温度培养条件,对设定条件下中国漂浮浒苔种类扁浒苔（Ulva compessa）的特定生长率进行测定,并利用Phyto-PAM荧光仪测定了低温和低光照强度条件下浒苔最大光量子产量F_v/F_m。结果表明,低温和低光照强度对扁浒苔生长的影响极显著（P<0.01）且两者存在显著的交互作用（P<0.05） 方差分析表明,扁浒苔在7.5℃、 ℃和12.5℃条件下的特定生长率差异不显著（P>0.05）但显著高于5℃的特定生长率,显著低于15℃的特定生长率（P<0.05） 当光照强度为10 μmol/（m²·s）20 μmol/（m²·s）和30 μmol/（m²·s）时,扁浒苔生长率显著高于在4 μmol/（m²·s）的生长率,显著低于在40 μmol/（m²·s）的生长率（P<0.05）在实验范围内随温度和光强的升高,F_v/F_m有上升趋势,但显著低于对照水平（P<0.05）。综合以上结果可知,扁浒苔在温度为5℃,光照强度为4 μmol/（m²·s）条件下,仍然可保持4.32%/d的特定生长率,表明扁浒苔对低温和弱光具有一定耐受性,且温度和光照共同对扁浒苔的生长产生影响,在实验范围内温度和光照强度越高,扁浒苔生长越快,最大光量子产量Fv/Fm也随之提高。