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氢原子在Si(111)—7*7表面上吸附与脱附的模拟分析
引用本文:赵立华,王祝盈.氢原子在Si(111)—7*7表面上吸附与脱附的模拟分析[J].湖南农业大学学报(自然科学版),1994,21(4).
作者姓名:赵立华  王祝盈
作者单位:Department of Applied Physics,Hunan Univ
摘    要:本文根据Si(111)-7×7表面结构的DAS模型,从微观上分析了氢原子在这种表面上的吸附与脱附行为,揭示了二级脱附的指数前因子与温度的关系,对不同的表面初始覆盖度,导出了新的脱附方程,在计算机上用这个方程进行模拟,得到了与实验结果一致的模拟脱附谱。

关 键 词:吸附,脱附,氢原子,计算机模拟
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