基于叶片光谱特性的玉米品种抗倒伏性预测

针对玉米叶片各区域光谱特性与玉米品种抗倒伏性能之间关系未知的问题,该研究探讨了叶脉区、正常反射区和整片叶的平均光谱对玉米品种抗倒伏性预测效果的影响。试验采集了2018年和2019年8个玉米品种的叶片高光谱图像,使用阈值分割和K-means聚类方法提取各叶片区域的平均光谱数据。用最大相关最小冗余（Max-Relevance and Min-Redundancy,MRMR）特征选择算法,提取各叶片区域平均光谱的抗倒伏和不抗倒伏品种分类特征。使用交叉验证的方式,对MRMR方法选择的特征数量进行优化,并使用支持向量机（Support Vector Machines,SVM）方法建立各叶片区域的抗倒伏性预测光谱模型,用网格搜索法对各模型参数进行优化。两年试验结果显示,各叶片区域约有35~50个可以反映品种抗倒伏性的光谱特征,其中非叶脉区光谱相比叶脉区光谱的抗倒伏特征更多,分类效果更好。参数优化训练后,整叶片、叶脉区和正常反射区的光谱模型对训练集数据的预测正确率达到98.46%、98.52%和100%,正常反射区的光谱模型对测试集数据的分类效果最好,2018年和2019年测试集数据的预测正确率分别达到了91.00%和94.34%。与基于整片叶平均光谱的预测模型相比,基于叶片各区域的光谱特征模型可以排除不平整叶面反射的干扰,有助于提高模型预测结果的稳定性。研究表明,基于正常反射区光谱的预测模型更适用于品种抗倒伏预测,研究结果可为基于玉米叶片光谱预测品种的抗倒伏能力提供借鉴。