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稳定、快速、低温化学镀Ni-W-P工艺
引用本文:关永峰,胡三媛,徐方超,李长林.稳定、快速、低温化学镀Ni-W-P工艺[J].中国农业大学学报,2002,7(6):82-86.
作者姓名:关永峰  胡三媛  徐方超  李长林
作者单位:中国农业大学机械工程学院
摘    要:以 Ni- P化学镀工艺为基础 ,通过对 Ni- W- P化学镀工艺的均匀设计试验、试验结果的回归分析和优化 ,及不同温度和 p H镀液的施镀试验 ,得到了一种化学镀 Ni- W- P合金新工艺。镀温 70℃、p H7.5为最佳施镀条件 ,此时镀速大于 17μm.h-1,镀液稳定性大于 6 min,得到的镀层表面光亮、致密、无小坑。镀层性能检测结果表明 :镀层镀态硬度 86 5 HV,经 4 0 0℃ ,1h热处理后硬度为 15 6 6 HV,其硬度和耐磨损性能明显优于化学镀 Ni- P合金工艺镀层

关 键 词:均匀设计  指标综合  工艺优化  性能检测
修稿时间:2002年5月7日

Technology of Stable, High Speed and Low Temperature Electroless Plating Ni-W-P Alloy
Guan Yongfeng,Hu Sanyuan,Xu Fangchao,Li Changlin.Technology of Stable, High Speed and Low Temperature Electroless Plating Ni-W-P Alloy[J].Journal of China Agricultural University,2002,7(6):82-86.
Authors:Guan Yongfeng  Hu Sanyuan  Xu Fangchao  Li Changlin
Abstract:
Keywords:dispersion design  index synthesize  craft optimum  property test
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