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高压静电场对谷子幼苗生长和穗部性状的影响
作者姓名:
胡希远
雷大富
摘 要:
本研究表明,高压静电场处理谷子种子使幼苗生长加快,根冠比增大,穗重和穗粒数提高,秕谷率降低,处理剂量以场强E=5.5-6.5kv/cm较佳。
关 键 词:
高压静电场
谷子
生长
穗部性状
种子处理
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