薄膜样品的制作与均匀度测定

液滴法[1]是制作薄膜样品的最简单方法,本文介绍了使用该方法制作薄膜样品的具体步骤.由于样品在自然蒸发过程中具有结晶效应,使得最终形成的样品极不均匀.如果使用这种样品刻度系统的灵敏度曲线,样品的不均匀性会引起严重的实验误差.利用使用X光会聚透镜的XRF系统[2]形成的小束斑,可对样品的均匀度进行分析.另外文中给出了在使用此种样品刻度系统灵敏度曲线时,消除样品不均匀性引起误差的方法.     

测量X光透镜扭曲度实验方法的建立

扭曲度的大小是反映透镜质量的重要参数。通过测定不同透镜的峰位分布曲线和选用不同的光阑测定不同透镜的扭曲度,得知光阑越接近X光透镜的边缘,衍射光的峰位变化越大;选用光阑越大则测得的扭曲度越大。扫描速度定为0.125°／min重复性很好,建立了测量X光透镜扭曲度的实验方法。     

XRF系统灵敏度曲线的标定

将整体会聚透镜0301组合到XRF分析系统,并使用最小焦斑为15的OXFORD高亮微聚焦X射线源作为光源.使用不锈钢合金、化合物、单元素3种薄膜标样标定了此XRF分析系统的灵敏度曲线,并对比了使用透镜和使用光阑两种情况下系统灵敏度曲线的不同.通过计算可知,X光透镜显著提高了系统的灵敏度,两种情况荧光产额数之比对于元素Ni最大,约为2 386;Se元素的比值最小,为575.     

狭缝离双棱镜多远干涉条纹清晰易辨

计算狭缝和双棱镜之间的距离对折射光束单心性的影响,认为只有间距合理,干涉条纹才清晰易辨。     

一种精确测定X光透镜发散度的实验方法

为了建立精确测定X光透镜发散度的实验方法,提出了有效X光源的概念,这样可以得到X光束发散度的准确值．推导出了X光束发散度的理论计算公式．零点扫描实验方法证明了理论公式的正确性．晶体转动实验方法测量了X光束的发散度,与理论值符合得很好,晶体转动实验方法建立．晶体转动实验方法应用到对X光透镜发散度的测定可以消除分析晶体不完整性的影响,精确性很高．     

原子力显微镜原理及磁畴测量

通过对原子力显微镜工作机理及磁畴理论的研究,应用原子力显微镜的磁畴测量功能检测软盘、硬盘、超磁致伸缩材料TDF等磁性材料的磁畴,并进行相应的分析。为进一步研究磁存储材料及磁致伸缩材料的磁畴特性打下基础。