魔芋块茎组织培养快速繁殖技术的研究

以魔芋幼芽附近的块茎组织和其它部分的块茎组织为外植体,接种于I/2MS 1.0mg/IBA 0.01mg/INAA的培养基中,从增大的块茎组织表面直接诱导幼芽。增大的块茎组织分割后接种于MS 1.0mg/IBA 0.01mg/INAA的培养基中进行增殖培养,6个月后,块茎组织的增殖率最高可达757倍。诱导出的幼芽转入不含激素的MS培养基中,形成幼苗,幼苗切块转入MS 0.1mg/INAA的生根培养基中,幼苗生根。试管苗移栽6个月后获得子块茎。从而建立起魔芋块茎组织培养快速繁殖技术程序。     

几种新的诱变因素对水稻的诱变效应

利用返回式卫星搭载 5个水稻品种的干种子进行空间诱变处理 ,以及用离子束、质子、同步辐射 (软X射线 )处理水稻干种子 ,并与γ射线处理作比较 ,研究其诱变效应。结果表明 ,供试的几种诱变因素均可诱发各类染色体结构变异 ,其细胞染色体畸变率均明显高于对照。空间环境促进根尖细胞有丝分裂活动 ,其它诱变因素均不同程度地抑制根尖细胞有丝分裂活动。质子等处理在M2 代能诱发较高频率的叶绿素缺失突变、株高突变和抽穗期突变 ,其有益性状突变频率高于γ射线     

氯化钠对γ辐射诱发水稻M_2代突变的修饰效应

本文研究氯化钠对γ辐射诱发水稻M_2代突变的修饰效应。结果表明,氯化钠无论是前处理还是后处理都能提高γ辐射诱发水稻M-2代幼苗叶绿素缺失突变,抽穗期和株高突变频率,以提高早抽穗期和株高突变频率最为显著。结论认为,氯化钠作为一种辐射保护剂,与γ射线复合处理既可以减轻M_1代辐射损伤效应,又可提高M_2代突变频率,这种复合处理方式在育种实践中是有意义的。247～251     

栽培大麦辐射敏感性与进化的关系

大麦幼苗组织的过氧化物酶同工酶有3个酶带区,8条酶带。辐照后,在偏负极端出现一个新的酶带区,增加1—3条酶带。辐射剂量效应可用线性回归方程Y=A+BX拟合。大麦品种的过氧化物酶同工酶变化与辐射敏感性有关,与进化类型直接相关。协方差分析表明,裸大麦对辐射的敏感性显著高于皮大麦,四棱和六棱大麦则显著高于二棱大麦。据此可以认为,在进化上属原始类型的品种,辐射敏感性较低。     

~(137)Cs γ射线与叠氮化钠复合处理水稻的诱变效应

用0、50、100、150、200、250和300Gy的γ射线及0、1、2、3mM的叠氮化钠复合处理水稻品种广陆矮4号的干种子。结果表明,M_1的损伤效应随γ射线剂量和叠氮化钠浓度的提高而增加。复合处理在苗高、根长、苗高活力指数和根长活力指数方面表现累加效应,在染色体畸变方面存在协同作用。复合处理的最佳剂量组合为200Gyγ射线+2mM叠氮化钠,其叶绿素、抽穗期和株高突变频率均最高,分别为2.833％、3.473％和1.828％,相互作用系数分别为1.649、1.329和1.449。     

质子对水稻的辐射生物学效应研究

用不同能量、剂量的质子辐照水稻干种子,与γ射线辐照作对比,研究其生物学效应.结果表明,质子辐照可诱发各种可见染色体结构变异及有丝分裂行为异常.随着质子能量和剂量的提高,染色体畸变细胞率呈增加趋势.质子处理的能量效应大于剂量效应,能量效应主要表现在8MeV与4.6MeV的差异.质子对染色体的致畸效应和对有丝分裂的抑制作用与γ射线相似,但质子诱发的微核比例明显高于γ射线,而染色体桥的比例低于γ射线.3个供试品种的辐射敏感性随诱变源和考察指标而变化.     

离子注入甜菊种子生物效应的研究 Ⅰ.低能离子注入甜菊种子对其植物学性状的影响

用氮离子、碳离子不同能量、剂量组合注入４个甜菊品种的干种子中，播种后调查田间植株的生物学性状，结果表明：１）同一品种不同处理茎叶鲜重与对照比均有提高的趋势，其中以７５ｋｅＶ×１０１５／ｃｍ２氮离子注入处理为最佳，地上部鲜重及干重分别比对照高６２．３％、５４％，而６０ｋｅＶ×１０１４／ｃｍ２氮离子注入处理与对照比可促进总叶数及单株叶面积的增加；２）氮、碳离子作用比较结果表明，７５ｋｅＶ×１０１４／ｃｍ２与７５ｋｅＶ×５×１０１４／ｃｍ２处理碳离子对所有性状的作用均优于氮离子（７５ｋｅＶ×５×１０１４／ｃｍ２处理的株高性状除外），而７５ｋｅＶ×１０１５／ｃｍ２处理则氮离子作用均优于碳离子（唯有节数两离子作用相当）；３）４个参试品种比较结果表明，纯品种各性状表现均一致（济宁、丰２），而两个杂交种某些性状略有差异。     

不同类型栽培稻的辐射敏感性的初步研究

63个不同类型栽培稻的干种子经12—48KR的~(137)Csγ射线辐照后,参照多靶学说模型,用计算机辅助的最小二乘法拟合幼苗生长抑制和存活率的剂量效应曲线.得幼苗生长抑制的标准函数式为F(D)=(1- 0.0007178)(1- (1- e~-(0.0646D))4.5]+0.0007178,幼苗存活率为F(D)=(1- 0.000771)[1-(1-e~(-0.O5100D))4.6]+0.000771.由标准函数式求出每个品种的辐射敏感系数(a_1)和半致矮(死)剂量(D_(50)),分析不同类型栽培稻的辐射敏感性差异.结果表明,水稻的幼苗生长抑制敏感系数为(6.65±1.90)×10~(-2),存活率为(5.20±1.32)×10~(-2),与陆稻[幼苗生长抑制为(6.94±1.39)×10~(-2),存活率为(5.34±1.17)×10~(-2)]无显著差异。籼稻的辐射敏感性[幼苗生长抑制为(5.64±1.55)×10~(-2),存活率为(4.63±0.99)×10~(-2)]显著低于粳稻[敏感系数分别为(7.37士1.31)×10~(-2)和(5.61±1.36)×10~(-2)]和糯稻[敏感系数分别为(7.82±1.57)×10~(-2)和(5.83±1.24)×10~(-2)].粳稻的辐射敏感性虽低于糯稻,但差异不显著。     

氯化钠对水稻种子的辐射保护作用

采用以r射线照射为主处理、氯化钠为副处理的裂区试验设计,研究氯化钠对水稻休眠和萌发种子的辐射保护作用。结果表明,M1代一叶期和三叶期动苗生长,成苗率和商性的辐射损伤效应随处理剂量的增加而显著加重;而0.05、0.1和0.2M氯化钠水溶液预处理受照射的水稻种子,可促进幼苗生长,提高成苗率和育性,与对照的差异极显著。表明氯比钠对水稻具有辐射保护作用。此外,在休眠种子照射中,氯化钠列M1代一叶期、三叶期的苗高、成苗率和育性的保护作用分别为22.02±8.73、21.31±5.60、22.68±5.77和8.33±8.45;在萌发种子照射中分别为21.32±16.33、18.92±9.18、27.91±21.38和12.02±13.42。